IBM开发出纳米印制新工艺，分辨率将提高三个数量级

IBM Zurich实验室和ETH Zurich大学的研究人员已经示范了一种新的可用于其它应用的纳米印制工艺，以创建印刷纳米线。该工艺的特色在于具有比已知的印刷技术高三个数量级的分辨率，研究人员透露说。  

该成果刊登在自然纳米技术今年第9期上，它描述了可用于生物医疗、电子和光学技术领域的有发展潜力的工具。  

与现有的印刷技术相比，新的技术利用了自装配工艺，从而在印刷板或模板上能够控制纳米粒子的排列。在苏黎世的纳米成形设计团队的Tobias Kraus解释说：“在传统的照相凹版印刷中，墨是刮擦到印刷板的凹进去的特征之中的，其中，颜料粒子是随机分布的。在我们的方法中，有方向性的自装配工艺控制纳米粒子的排列。”  

整个装配件然后被印刷到目标表面上，在那里，粒子位置被以非常高的分辨率精确地保留。研究人员能够印刷小到60纳米的粒子，并能够以可重复的方式对它们进行非常精确的定位。所探究的印刷模板几何学包括产生紧密填充的纳米线的各种线，研究人员表示，这些线可以被用于分子电子系统中。据该小组透露，这种长距离的精确印刷方法类似于微接触印刷方法。  

在一次实验中，研究人员利用CVD工艺，通过生长半导体纳米线，实现了接触反应的种子粒子的受控布局。纳米线据称是构建后CMOS纳米三极管的有潜力的候选技术。